赛力斯自动化科技有限公司

这些PS6催化剂和吸附器本体气体净化器以高可靠性、低成本和高性能有效地去除了大量杂质。

• 使用专门设计的双催化和吸附工艺，为半导体应用提供高纯度气体
• 碳氢化合物（CH4）、一氧化碳（CO）和氢气（H2）在高温下与氧化催化剂容器中的氧气（O2）反应，形成二氧化碳（CO2）和水（H2O），然后在环境温度吸附器容器中去除。
• 两个吸附器容器在净化和再生模式之间交替，提供连续净化
• 吸附剂再生是通过在高温下反冲洗纯化的O2来实现的
• 优化设计在流量高达16667 slpm（1000 Nm3/hr）的小占地面积内提供亚ppb性能

产地：美国

工艺：双催化和吸附

气体净化：O₂

杂质去除至<1ppb：H₂O、CO、CO₂、H₂、CH₄

流量max.：15 Nm³/hr

压降max.：<0.7 bar (70 kPa)

吸附器容器数量：2

高度H：193 cm

宽度W：89 cm

深度D：84 cm

重量：<600 kg

半导体

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平板显示器

发光二极管

太阳能