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真空炉

PALOMAR高真空炉3150

产品介绍

3150高真空炉封装采用非常低的真空和湿度水平密封,以延长长期性能。提供低至 10-7 Torr 的真空度和高达 500°C(可选 1000°C)的温度。洁净室兼容系统还可配置为允许盖子和封装的原位分离、吸气剂烧制和MEMS封装的密封。使用涡轮分子阻力泵来有效泵送氢气分子。对于需要很低水平残留水蒸气的工艺,可以将可选的低温水泵添加到系统中。

性能特点

  • 高真空能力
  • 可选的低温水泵
  • 涡轮分子泵
  • 压力为12 psig
  • 自动线性运动阶段
  • 电阻石墨热系统
  • 专有运行分析仪软件
  • 自动温度和压力控制
  • 分布式逻辑控制系统
  • 原位热量激活
  • 所有配置文件运行的实时绘图
  • 温度高达1000°C(可选)

技术参数

  • 工作温度范围:室温至500°C(1000°C选项)
  • 热工作区:25“2(160 cm2)
  • min真空水平:<1 x 10-7托尔(1.3 x 10-7mbar)
  • max室内气PSI:15 psig(1.8 bar)
  • 室深度:12英寸(305毫米)
  • 工作表面高度:37英寸(95厘米)可调
  • 需要压缩空气:90 psig(7 bar)
  • 冷却方法:可编程氮气清洗
  • 加热方法:可移动的电阻石墨夹具
  • 工艺气体(三个输入):需要N2,(AR,HE,形成气体可选) @ 90psig(7 bar)min压力
  • 尺寸(w x d x h):94“ x 43” x 54“(238 x 109 x 137 cm)
  • 体重:1800磅(816公斤)
  • 电气(指定电压):208-240伏,60安培,50/60 Hz,1阶段,7.3千瓦平均值,13.2千瓦峰
  • 真空泵类型:涡轮分子阻力(可选的低温水泵)
  • 冷却水:2 GPM(8 lpm) @ 20-25°C,2千瓦的容量min

 

 

 

 

详细参数

产品应用


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